محصولات
-
![Electronics Grade Clean Agent Hydrofluoroether HFE 347]()
Electronics Grade Clean Agent Hydrofluoroether HFE 347بیشترHydrofluoroether HFE 347 دارای خواص عالی است: مانند جذب نور خوب، چگالی بالا، ویسکوزیته کم، ثابت دی
-
![حلال متیلن کلرید]()
حلال متیلن کلریدبیشترحلال متیلن کلراید را می توان به عنوان حلال در صنایع رزین و پلاستیک استفاده کرد و به طور گسترده در
-
![پودر پلی تترا فلوئورواتیلن PTFE JF-4D]()
پودر پلی تترا فلوئورواتیلن PTFE JF-4Dبیشترپودر ریز رزین PTFE دارای مزایای بسیاری مانند مقاومت شیمیایی بالا، عدم چسبندگی آسان، مقاومت در برابر
-
![Seal Tape Material PTFE Fine Powder JF-4D08]()
Seal Tape Material PTFE Fine Powder JF-4D08بیشتردارای استحکام کششی بالا و کشش خوب، می تواند نوار مهر و موم را بسازد.. برای ساخت لوله اکسترود شده
-
![پنتافلوروپروپان (HFC 245fa) - نسل سوم فوم کننده]()
پنتافلوروپروپان (HFC 245fa) - نسل سوم فوم کنندهبیشتربه عنوان یک عامل فومکننده نسل سوم، HFC-245fa میتواند جایگزین HCFC141b برای فومهای پلیاورتان سفت
-
![1،1،1،3،3-پنتا فلوئوروپروپان - عامل فوم کننده نسل سوم]()
1،1،1،3،3-پنتا فلوئوروپروپان - عامل فوم کننده نسل سومبیشتر1،1،1،3،3-پنتا فلوئوروپروپان (HFC-245fa) به طور گسترده ای به عنوان عامل کف، مبرد، عامل تمیز کننده،
-
![مبرد HFC R245fa با خلوص بالا]()
مبرد HFC R245fa با خلوص بالابیشترR245fa یک هیدروفلوئوروکربن (HFC) است. برای تاسیسات جدید به عنوان مبرد تخصصی در تهویه مطبوع صنعتی،
-
![99.999٪ C318 Octafluorocyclobutan برای صنعت نیمه هادی]()
99.999٪ C318 Octafluorocyclobutan برای صنعت نیمه هادیبیشترپرفلوئوروسیکلوبوتان C318 99.999% بالا یک گاز الکترونیکی است که میتواند در حکاکی و تمیز کردن مدار
-
![گاز اکتافلوئوروسیکلوبوتان C4F8]()
گاز اکتافلوئوروسیکلوبوتان C4F8بیشتراکتافلوئوروسیکلوبوتان یک ترکیب آلی مهم است که به دلیل خواص منحصر به فردش کاربردهای صنعتی مختلفی
-
![گاز اکتافلوئوروسیکلوبوتان C4F8 با خلوص بالا 99.999%]()
گاز اکتافلوئوروسیکلوبوتان C4F8 با خلوص بالا 99.999%بیشترگاز Octafluorocyclobutane C4F8، خلوص: 99.999%. اغلب در فرآیند PECVD نیمه هادی (پلاسما افزایش. رسوب
-
![Octafluorocyclobutane C4F8 5N درجه الکترونیکی]()
Octafluorocyclobutane C4F8 5N درجه الکترونیکیبیشترOctafluorocyclobutane C4F8، خلوص گاز: 99.999٪. اغلب در فرآیند PECVD نیمه هادی (پلاسما افزایش. رسوب
-
![HFC 227ea تمیز عامل برای آتش سرکوب]()
HFC 227ea تمیز عامل برای آتش سرکوببیشتردارای گواهینامه UL/گواهینامه ISO 9001/CCC، گواهینامه CCCS.. پتانسیل تخریب لایه ازن صفر. پتانسیل
